真空镀膜的作用

2020-12-21 11:23:10

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真空镀膜是真空应用领域的一个重要方面，它是基于真空技术，采用物理或化学方法，并吸收电子束、分子束、离子束、等离子束、射频和磁控等一系列新技术，为科学研究和实际生产提供薄膜制备的新工艺.简而言之，将金属、合金或化合物在真空中蒸发或溅射，使之凝固并沉积在涂覆物(称为基体，基片)上的方法，即真空镀膜。

真空镀膜

真空镀膜的作用主要是使镀膜表面具有高的金属光泽和镜面效果，特别是汽车灯罩，具有非常重要的聚光效果；其次，使镀膜表面具有极好的阻隔性，提供优良的电磁屏蔽和导电效果。根据气相金属生成方式和沉积方式的不同，真空镀膜分为两种工艺：热蒸发镀膜法和磁控溅射镀膜法。而磁控溅射法由于镀层与基体结合力强，镀层致密、均匀，因而更具技术优势。负压电镀工艺是指在真空环境中，某些金属或金属化合物以气相的形式沉积到材料表面(通常是非金属)，属于物理气相沉积工艺，由于镀层通常是铝、锡、铟等金属的薄膜，所以又称负压金属化。

真空膜是指要求具有较高真空度的薄膜，特别是真空离子蒸发、磁控溅射、MBE分子束外延、PLD激光溅射沉积等。磁控溅射靶在真空镀膜过程中，由于发射时温度较高，会使射出变形，所以它有一个水套来冷却射。但要保证套管内水温不受环境温度和自然温度的影响，通常需要借助冷水机组实现真空镀膜机组的冷却冷却。专用真空镀膜冷水机，可稳定水温在5℃~30℃，调节可控，可有效控制镀膜温度，提高镀件质量。