真空膜是指要求具有较高真空度的薄膜

真空膜是指要求具有较高真空度的薄膜，特别是真空离子蒸发、磁控溅射、MBE分子束外延、PLD激光溅射沉积等。磁控溅射靶在真空镀膜过程中，由于发射时温度较高，会使射出变形，所以它有一个水套来冷却射。但要保证套管内水温不受环境温度和自然温度的影响，通常需要借助冷水机组实现真空镀膜机组的冷却冷却。

负压条件下成膜有许多优点：可以减少蒸发的材料原子、分子在飞向基底的过程中与分子的碰撞、气体中活性分子与蒸发源材料之间的化学反应(例如氧化等)，以及降低成膜过程中气体分子进入基底中成为杂质的数量，采用金属真空镀膜，从而提供膜层的致密度、纯度、沉积速率和与基底的粘接能力。一般真空蒸镀要求成膜室内压力等于或低于10-2Pa，对于距离基片较远、成膜质量要求高的蒸发源要求降低压力。

在溅射膜上激光溅射镀膜，成分均匀，易于保持，在原子尺度上厚度均匀度相对较差(因为是脉冲溅射)，晶向(外边沿)生长的控制也比较一般。真空镀膜机操作规程具体操作时，请参照本说明书及本设备上仪表盘的指针显示和每个旋钮下的标注说明。确认真空镀膜机的各个操作控制开关是否处于“关断”位置。就我国现有的涂装生产线而言，主要存在以下问题：设计水平不高，我国在涂装设备开发方面投入不大，先进成熟的涂装设备很少占领市场，即使是国内自己建造的涂装生产线，生产线上的一些关键设备也是引进多了。它在国内的一些基础部件和控制部件的质量并没有过关，经不起长期的考验。