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真空镀膜是真空应用领域的一个重要方面。它以真空技术为基础，采用物理或化学方法，吸收了电子束、分子束、离子束、等离子体束、射频和磁控等一系列新技术，为科学研究和实际生产提供了一种新的薄膜制备工艺。简而言之，金属、合金或化合物在真空中蒸发或溅射，从而可以沉积在被涂覆的物体(称为基底、衬底或基体)上。
真空镀膜技术是一种材料合成加工技术，广泛应用于半导体电路、LED屏、触摸屏、显示屏行业，如光学薄膜、感光薄膜、保护膜、工具超硬薄膜、纳米材料功能薄膜的生产。然而，全球制造业的快速发展给真空镀膜行业带来了巨大的机遇和挑战。
与传统镀膜工艺相比，真空镀膜有很多优点:在真空电场条件下，等离子体直接沉积在工件表面形成膜层，避免了电镀液的污染；还可以将加工温度控制在500度以内，适用于各种基体材料；靶材种类繁多，更适合涂覆各种产品。
蒸发镀膜、溅射镀膜和离子镀是真空镀膜技术的三种形式，基于这三种技术的真空镀膜设备是形成高质量、高性能薄膜的关键。以磁控溅射镀膜设备为例，在真空环境下，充入的氩气通过高压和磁场处于离子状态，撞击靶材，使靶材原子冲向衬底形成薄膜层。
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