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真空镀膜技术是指在真空环境中，某些金属或金属化合物以蒸气的形式沉积在材料（通常是非金属）的表面上。这是物理气相沉积过程，因为涂层通常是铝，锡，铟和其他金属的薄膜，因此也称为真空金属化。真空镀膜设备的功能主要是使镀层部件的表面具有高度的金属光泽和镜面效果，尤其是对于汽车灯罩而言，具有非常重要的聚光效果；其次，使镀层具有出色的阻隔性能，提供出色的电磁屏蔽和导电效果。
根据生产气相金属的方法和涂层的沉积方法，真空涂覆分为两个过程：热蒸发涂覆方法和磁控溅射涂覆方法。其中，磁控溅射法具有涂层与基材之间的结合力强，涂层致密均匀的优点，并具有更多的技术优势。真空镀膜的材料主要是金属和金属氧化物。金属涂层材料包括铝，锡，铟，钴，镍，铜，锌，银，金，钛，铬，钼，钨等；合金涂层材料包括镍铬，镍铁，铁钴，金银金等。金属化合物包括二氧化硅，二氧化钛，二氧化锡等。其中，铝是最常用的。这主要是由于铝的蒸发温度低，易于操作，铝涂层与塑料的附着力好，对紫外线和气体的抵抗力强以及价格低廉。
真空镀膜设备的功能是多方面的，这决定了其广泛的应用范围。真空镀膜的主要功能是赋予被镀部件表面高度的金属光泽和镜面效果，使薄膜在薄膜材料上具有优异的阻隔性能，并提供出色的电磁屏蔽和导电效果。真空镀膜技术是指在真空环境下，某些金属化合物以蒸气的形式沉积在材料（通常是非金属材料）的表面上。这是物理气相沉积过程。由于涂层通常是金属膜，因此也称为真空金属化。
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