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真空镀膜是一种需要在较高真空度下进行的镀膜，包括真空离子蒸发，磁控溅射，MBE分子束外延，PLD激光溅射沉积等。在真空镀膜的过程中，磁控管溅射靶会在发射过程中产生高温，这会使弹丸变形，因此它有一个水套来冷却弹丸。为了确保水套中的水温不受环境和自然温度的影响，通常必须使用冷却器来冷却真空镀膜机。
真空镀膜设备在真空条件下成膜有很多优点：它可以减少蒸发材料中的原子与分子之间的碰撞以及在飞向基材过程中的分子，减少活性物质之间的化学反应（例如氧化等）气体和蒸发源材料中的分子，并减少在成膜过程中作为杂质进入膜的气体分子的量，并且硬件真空镀膜可以提供膜的密度，纯度，沉积速率和对基材的附着力。通常，真空蒸发需要成膜室中的压力等于或低于10-2Pa。对于蒸发源远离基材且膜质量非常高的场合，要求压力较低。
镀在溅射涂层中的激光溅射涂层易于保持组成的均匀性，但是原子尺度的厚度均匀性相对较差（因为是脉冲溅射），并且对晶体取向（外缘）生长的控制比较一般。有关真空镀膜机操作步骤的具体操作，请参阅设备手册和设备仪表板上的指针显示以及每个旋钮下方的说明。检查真空镀膜机的操作控制开关是否处于“关闭”位置。从我国现有的涂料生产线来看，主要问题如下：设计水平不高，我国在涂料设备的开发上投入不多，先进，成熟的涂料设备很少占领市场，即使是在国内自行建造的。对于涂料生产线，该生产线上的一些关键设备也是进口的。我国一些基本部件和控制部件的质量不足以承受长期测试。
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