真空镀膜设备镀膜过程

2020-11-12 16:56:43

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真空镀膜设备主要是指需要在高真空度下进行的镀膜，包括多种，包括多弧离子真空镀膜设备、真空离子蒸发、光学镀膜机、磁控溅射、MBE分子束外延、PLD激光溅射沉积等。真空镀膜的工作原理是薄膜在高温下蒸发，落到工件表面结晶。因为空气会对蒸发的膜分子产生阻力，造成碰撞，使晶体变得粗糙、暗淡，所以需要在高真空下使晶体变得细小、光亮。真空度不高，晶体会失去光泽，结合力差。早期真空镀膜依靠蒸发物的自然散射，结合效率差，光泽度差。现在，随着中频磁控溅射靶的加入，膜体的蒸发分子在电场的作用下受到靶材的轰击，大量的靶原子被溅射出来，中性的靶原子(或分子)沉积在衬底上形成薄膜，解决了以往自然蒸发无法处理的膜体品种，如镀钛、镀锆等问题。

真空镀膜设备镀膜过程

目前，真空技术在石油、化工、冶金等行业的真空蒸发、结晶、蒸馏、升华、干燥、负压浓缩、脱水、化学反应吸收和真空输送过程中的应用越来越广泛。真空技术应用于各种加工工艺后，可以节能降耗，加快反应速度，提高产品质量，增加经济效益，并逐渐形成共识。但真空技术是一门边缘科学，解放后中国的真空产业消化吸收了。蒸汽喷射真空泵具有高真空、低能耗、运行稳定、无机械摩擦、使用寿命长、设备安全等优点。在高真空要求的工作系统中，蒸汽喷射真空泵通常是选的真空泵设备。