金属件真空镀膜机镀膜工艺介绍（二）

2022-03-30 14:34:04

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真空泵抽至6.6x10-3pa。逐渐是粗抽，从空气抽至5pa上下，用食油扩散泵开展细抽。在粗抽时，可以烤制加温至150℃。随着镀膜室溫度的上升，器壁放空气会使真空值减少，随后又回暖，直到溫度上升到6.6x10-3pa时才能开展镀膜工作中。

(4)负电子清理

①氩直流溅射清理

真空值：通人高纯氩气瓶(99.999%)真空值维持在2～3pa。负电子工作电压：800～1000v。负电子時间：10min.

此时在真空泵镀膜房间内产生电弧放电，充放电造成的氩正离子以较高的力量碰撞产品工件表层，将产品工件表层吸咐的汽体、残渣和产品工件表层分子磁控溅射出来，外露原材料的新鮮表层。

②钛负电子

真空值：通人高纯氩气瓶使真空值维持在2x10-2pa。单脉冲偏压：400～500v，pwm占空比20%。电孤电流量：60～80a，交替点燃电孤挥发源，每一个电孤挥发源点燃1～2min。

①pvd涂层

真空值：通人高纯氩气瓶，真空值维持在2x10-2pa。单脉冲偏压：200～300v，pwm占空比50%。电孤电流量：60～80a，点燃所有弧源，時间2～3min.

②镀ticn

真空值：通人高纯氢气使真空值维持在(3～8)x10-1pa，随后再慢慢加大c2h2汽体，伴随着c2h2汽体量扩大，色泽由金黄色一赤金黄一玫瑰金色一灰黑色转变。操纵n2与c2h2二种混合气体的百分比可以做到设定的饱和度。

电孤电流量：50～70a。单脉冲偏压：100～150v，pwm占空比60%～80%。堆积溫度：200℃上下。镀膜時间：10～20min，膜层薄厚0.2～0.5μm。

(6)制冷

真空镀膜机镀膜工艺流程完毕后，首先关掉电孤开关电源和偏压电源，随后关掉气动阀门、转停架。产品工件在真空泵镀膜房间内制冷至80～100℃时，向镀膜房间内充空气，取下产品工件。

以上是多弧正离子真空镀膜机镀膜加工工艺通用性步骤，运用普遍，也是最多见的。

真空镀膜机