真空镀膜磁控溅射方法是什么

2021-01-03 16:42:03

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磁控溅射方法是指电子在电场的作用下加速飞入基底，与氩原子碰撞，电离出大量的氩离子和电子，使电子飞入基底。由于采用高压电场激发产生等离子体镀膜材料，几乎所有的高熔点金属都能使用，因此相对于真空镀膜法成本也较高，但与真空镀膜法制造工艺相比，磁控溅射法具有镀膜层与基材层结合力强、镀层致密、均匀等优点。

磁控溅射真空镀膜设备是指在真空条件下，现有产品采用的多功能镀膜设备，它由多个系统组成，每一个系统可完成不同的功能，从而达到*的高质量镀膜，其中包括真空腔、机械泵、真空测试系统、油扩散泵、抽真空系统、冷凝泵及成膜控制系统等。

真空镀膜

真空镀膜机：镀膜工艺主要有真空磁控溅射法、真空蒸发法、化学气相沉积法和溶胶-凝胶法等。利用磁控溅射技术可以设计和制作多层复合膜系，可在白色玻璃基底上镀上多种颜色，IPG型钟表镀膜机是一种耐腐蚀、耐磨、耐腐蚀性能好的镀膜设备，是目前生产和使用最广泛的产品之一。与磁控溅射法相比，真空蒸镀玻璃的种类和质量都有一定的差距，并逐渐用真空溅射法代替。化学气相沉积法是指在浮法玻璃生产线上，反应性气体在烧焦的玻璃表面上分解，均匀地沉积形成镀膜玻璃。