真空膜是指要求具有较高真空度的薄膜

真空镀膜是真空应用领域的一个重要方面，是以真空技术为基础，采用物理或化学方法，结合电子束、分子束、离子束、等离子束、射频和磁控等一系列新技术，实现薄膜制备的新工艺。简而言之，就是将金属、合金或化合物在真空中蒸发或溅射，使之凝固并沉积在涂膜的基体上的方法，叫做真空镀膜。

真空膜是指要求具有较高真空度的薄膜，特别是真空离子蒸发、磁控溅射、MBE分子束外延、PLD激光溅射沉积等。磁控溅射靶在真空镀膜过程中，由于发射时温度较高，会使射出变形，所以它有一个水套来冷却射。但要保证套管内水温不受环境温度和自然温度的影响，通常需要借助冷水机组实现真空镀膜机组的冷却冷却。专用真空镀膜冷水机，可稳定水温在5℃~30℃，调节可控，可有效控制镀膜温度，提高镀件质量。

薄膜的制备是在真空条件下进行的，包括晶态下的金属、半导体、绝缘体等单质或化合物薄膜，虽然化学汽相沉积也采用减压、低压或等离子体等真空手段，但真空镀膜通常是通过物理方法沉积薄膜。有三种形式的真空镀膜，即蒸发式、溅射式和离子式。真空膜的多功能性也决定了它的应用场合十分丰富。总的来说，真空镀膜的主要作用是使镀膜表面具有很高的金属光泽和镜面效果，使镀膜材料具有卓越的阻隔性，提供优良的电磁屏蔽和导电效果。