真空镀膜的功能

2020-11-16 17:37:55

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真空镀膜的功能主要是赋予镀层表面高度的金属光泽和镜面效果，特别是具有非常重要的光收集效果的汽车灯罩，其次赋予镀层优异的阻隔性能，提供优异的电磁屏蔽和导电效果。真空镀膜按照生产气相金属的方法和涂料的沉积方法分为两个过程：热蒸发镀膜法和磁控溅射镀膜法。其中，磁控溅射法具有镀膜层与基材结合力强的优点，镀膜密度大、均匀，具有较强的技术优势。真空镀膜技术是指在真空环境中以蒸汽的形式将某种金属或金属化合物沉积在材料表面（通常是非金属）。这是一个物理气相沉积过程，因为镀膜层往往是铝、锡、钛和其他金属的薄膜，所以也被称为真空金属化。

真空镀膜

磁龙溅射是一种物理气相沉积，用于准备各种材料（如金属、半导体和绝缘体）的薄膜。在实际涂装过程中，沉积速率和溅射功率、溅射时间、目标与基材之间的距离以及工作压力会影响涂层的质量和厚度。在磁龙溅射涂层中，随着使用数量的增加，目标材料被消耗，目标基距离变大。当其他参数保持不变时，涂层膜将逐渐不能满足要求。磁场的均匀性影响薄膜的均匀性。如果磁场不对称，涂层位置将发生变化。

磁龙溅射是一种在20世纪70年代阴极溅射的基础上发展起来的新型溅射涂装法。由于它有效地克服了低阴极溅射率和电子对基板温度升高的致命弱点，具有快速发展和广泛的应用。