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光学真空镀膜机磁控镀膜工艺

2022-02-26 14:41:09

电子光学真空镀膜机磁控溅射技术性及武器装备在高精密电子光学行业和交易光电材料塑料薄膜行业占有越来越大的市场份额。磁控溅射技术性分直流电,高频和微波射频表层的镀膜技术性,直流电磁控溅射技术性主要是对于纯陶瓷膜层,例如铜,镍,铬这些。高频磁控溅射技术性主要是镀化学物质及铝合金膜层,而微波射频表层的镀膜技术性,主要是镀绝缘层材料膜层,所镀靶材不一样,选用的表层的镀膜技术性有差别,那样才可以镀制成自身愿意的实际效果。

磁控溅射塑料薄膜堆积过程控制简易,颗粒动能高,得到的膜构造紧密平稳,可超低温沉膜。由于膜层温度低,和膜层构造高密度等优势,此技术性被销售市场广泛运用,尤其是电子光学高精密行业。

转动负极设备与业内一般平面图靶设备对比靶材应用周期时间与利用率显着提升;可hkkb的基材产品工件钢架结构订制,给顾客商品放置做到较大的运用室内空间;自动式一体的拉皮调节的转架设备,大幅降低设备开门時间,进一步提高了生产率与加工工艺可靠性;融成专利权离子源具备工作中覆盖面广动能平衡,高离化率,超稳定工作效能,低消耗能等特性。

磁控溅射电子光学真空镀膜机HCAR-1800型号,可运用時间准确操纵塑料薄膜薄厚,做到设计方案加工工艺规定,节约晶控,光控开关阶段,为用户省掉很多的膜厚仪耗品;可生产制造高折光率渗氮塑料薄膜,提升塑料薄膜强度特性;超低温涂膜,可解决各种各样主要用途;自动调节气体压力专利权设备,长期保持的靶工作电压,确保涂膜质量;可选“校准板外界调整组织”。

磁控溅射堆积系统软件在外壁上配有好几个圆柱型靶材,以提升堆积速度和双层镀层,该系统软件配置有直流电单脉冲或微波射频输出功率环形负极,竖直安裝的基材和圆柱型负极可较大水平地降低镀层全过程中的颗粒物环境污染。

AR膜(板材夹层玻璃透过率>91.5%),420-680nm股票波段,单层均值透过率>95%,透射率低于0.5(均值)%;两面均值透过率>98%,透射率低于0.5(均值)%;

色调膜或颜色渐变膜,以顾客样本为标准,持续五炉任意部位装片或满炉,色调偏色ΔE<1.2;水焯检测:水焯80℃30min,3M百格测试(1*1mm)后超过4B。

真空镀膜机

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