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磁控溅射真空镀膜机
磁控溅射 法是一种 涉及 气体 等离子体 的沉积 技术 ，产生 的等离子 气被限制 在含有 待沉积 物质 的空间里 ，而溅射靶 的表面 被等离子体 中的高能 离子 所侵蚀 ，这些 等离子体 释放 的原子 穿过 真空环境 ，再沉积 到基片 上形成 薄膜 。
(1)无论 熔化 温度 如何 ，几乎 所有 材料 都可 通过 磁控溅射 法沉积
(2)可根据 基材 和涂层 的要求 调整 光源 ，并将其放置 在腔内的任何 位置
(3)可沉积 合金 和化合物 的薄膜 ，但成分 与原材料 相似
5、在玻璃深加工产业中的应用
磁控制 溅射 膜的注意事项
辐射 ：一些 镀膜 用到 射频 电源 上，如功率 大，须作屏蔽 处理 .此外 ，欧洲标准的单室 镀膜机 门框 内嵌 装金属线 以屏蔽 辐射 。
2、金属 污染 ：镀膜 材料 (如铬、铟、铝等)对人体 有害 ，尤其 要注意 真空室 清理 过程 中产生 的粉尘 污染 。
3、噪音污染 ：如特别 是一些 大型 镀膜设备 ，机械 真空泵 噪音 大，可将泵隔绝 于墙外 。
4、光污染 ：离子 镀膜 过程 中，气体 电离 放出 强光 ，不宜 长时间 透过观察窗久看.
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