真空镀膜的作用

2020-11-14 11:37:37

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真空镀膜的作用主要是使镀膜表面具有高的金属光泽和镜面效果，特别是汽车灯罩，具有非常重要的聚光效果；其次，使镀膜表面具有极好的阻隔性，提供优良的电磁屏蔽和导电效果。根据气相金属生成方式和沉积方式的不同，真空镀膜分为两种工艺：热蒸发镀膜法和磁控溅射镀膜法。而磁控溅射法由于镀层与基体结合力强，镀层致密、均匀，因而更具技术优势。负压电镀技术是指在真空环境中，某些金属或金属化合物以气相的形式沉积到材料表面(通常是非金属)，属于物理气相沉积工艺，由于通常是铝、锡、铟等金属的镀层，所以又称负压金属化。

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磁控溅射法是一种物理气相沉积法，用于制备各种材料的薄膜，如金属，半导体，绝缘体等。镀膜过程中，镀速与溅射功率、溅射时间、靶材到基片的距离、工作气压等因素都会影响镀膜质量和厚度。磁控溅射法镀膜时，由于耗靶量增大，耗靶量增大，靶基间距增大，当其他参数相同时，镀膜性能逐渐下降，不符合要求。在均匀的磁场作用下，薄膜的均匀性受到磁场的影响，磁场不均匀会引起薄膜位置的偏移。

磁控溅射是70年代在阴极溅射基础上发展起来的一种新的溅射镀膜方法，因其有效地克服了阴极溅射速率低、电子使衬底温度升高等缺点而得到了迅速发展和广泛应用。